钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
文献导航
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
数据库索引
>
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
默认
篇关摘
篇名
关键词
摘要
全文
作者
作者单位
基金
分类号
搜索文章
搜索思路
钛学术文献服务平台
\
学术期刊
\
基础科学期刊
\
物理学期刊
\
物理学报期刊
\
SOI SONOS EEPROM总剂量辐照阈值退化机理研究
SOI SONOS EEPROM总剂量辐照阈值退化机理研究
作者:
于宗光
周昕杰
李蕾蕾
肖志强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SONOS
EEPROM
SOI
辐照
能带
摘要:
阈值退化是器件特性退化最重要的表征.本文以研究SOISONOSEEPROM器件的前栅和背栅阈值电压在辐照环境下的漂移为入手点,深入研究了在辐照情况下器件的退化;并从物理能带和载流子漂移的角度,分析了导致阈值电压漂移的物理机理,提出了提高器件性能的措施.
暂无资源
收藏
引用
分享
推荐文章
基于SOI技术的单层多晶EEPROM和SONOS EEPROM抗总剂量辐照特性研究
EEPROM
SOI SONOS
辐照
浮栅
SOI SONOS EEPROM管电离总剂量辐射效应
SONOS EEPROM器件
电离总剂量辐射
绝缘体上硅
国产工艺的部分耗尽SOI MOSFET总剂量辐照效应及可靠性
总剂量辐照效应
退火效应
可靠性
国产工艺的部分耗尽SOI PMOSFET总剂量辐照及退火效应研究
总剂量辐照效应
退火
亚阈曲线
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
SOI SONOS EEPROM总剂量辐照阈值退化机理研究
来源期刊
物理学报
学科
工学
关键词
SONOS
EEPROM
SOI
辐照
能带
年,卷(期)
2011,(9)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
759-766
页数
分类号
TN386.1
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
周昕杰
东南大学电子科学与工程学院
4
13
3.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(0)
节点文献
引证文献
(1)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2011(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2013(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
SONOS
EEPROM
SOI
辐照
能带
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
期刊文献
相关文献
1.
基于SOI技术的单层多晶EEPROM和SONOS EEPROM抗总剂量辐照特性研究
2.
SOI SONOS EEPROM管电离总剂量辐射效应
3.
国产工艺的部分耗尽SOI MOSFET总剂量辐照效应及可靠性
4.
国产工艺的部分耗尽SOI PMOSFET总剂量辐照及退火效应研究
5.
SOI MOSFET器件的热载流子退化机理
6.
EEPROM瞬时剂量率效应实验研究
7.
一种新型高抗辐照可配置SOI器件技术
8.
电离总剂量辐照试验流程阐述
9.
总剂量辐照与热载流子协同效应特性分析
10.
总剂量辐照效应对窄沟道SOI NMOSFET器件的影响
11.
短沟道SOI MOSFET总剂量辐照效应模型
12.
CMOS/SOI 4Kb SRAM总剂量辐照实验
13.
超深亚微米SOI NMOSFET中子辐照效应数值模拟
14.
ZnO白漆的质子辐照损伤与光学性能退化机理
15.
低剂量率辐照损伤增强效应的高温辐照加速试验机理研究
推荐文献
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
根据相关规定,获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息
完成下面三个步骤操作后即可获取文献,阅读后请
点击下方页面【继续获取】按钮
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
原文合作方
继续获取
获取文献流程
1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页,首次访问请先注册账号,填写基本信息后,点击【注册】
2.注册后进行实名认证,实名认证成功后点击【返回】
3.检查邮箱地址是否正确,若错误或未填写请填写正确邮箱地址,点击【确认支付】完成获取,文献将在1小时内发送至您的邮箱
*若已注册过原文合作方账号的用户,可跳过上述操作,直接登录后获取原文即可
点击
【获取原文】
按钮,跳转至合作网站。
首次获取需要在合作网站
进行注册。
注册并实名认证,认证后点击
【返回】按钮。
确认邮箱信息,点击
【确认支付】
, 订单将在一小时内发送至您的邮箱。
*
若已经注册过合作网站账号,请忽略第二、三步,直接登录即可。
期刊分类
期刊(年)
期刊(期)
期刊推荐
力学
化学
地球物理学
地质学
基础科学综合
大学学报
天文学
天文学、地球科学
数学
气象学
海洋学
物理学
生物学
生物科学
自然地理学和测绘学
自然科学总论
自然科学理论与方法
资源科学
非线性科学与系统科学
物理学报2022
物理学报2021
物理学报2020
物理学报2019
物理学报2018
物理学报2017
物理学报2016
物理学报2015
物理学报2014
物理学报2013
物理学报2012
物理学报2011
物理学报2010
物理学报2009
物理学报2008
物理学报2007
物理学报2006
物理学报2005
物理学报2004
物理学报2003
物理学报2002
物理学报2001
物理学报2000
物理学报1999
物理学报2011年第9期
物理学报2011年第8期
物理学报2011年第7期
物理学报2011年第6期
物理学报2011年第5期
物理学报2011年第4期
物理学报2011年第3期
物理学报2011年第2期
物理学报2011年第12期
物理学报2011年第11期
物理学报2011年第10期
物理学报2011年第1期
关于我们
用户协议
隐私政策
知识产权保护
期刊导航
免费查重
论文知识
钛学术官网
按字母查找期刊:
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
其他
联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com
京ICP备2021016839号
营业执照
版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号