投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术

• 作者: 周金运 李浪林 王衢 雷亮
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 光刻 套刻技术 模式识别 纯相位匹配滤波器
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 764-768
• 分类号: TN23|TN29
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2012.06.018

摘要

分析图像相关识别中的纯相位匹配滤波器的模式识别方法,利用该滤波器的相关识别位图计算算法,及其所具有的相干峰尖锐特性与高度旋转敏感特性,分别求取得光刻套刻过程中,掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的精密量化驱动值.将此算法的实施单元建立在一套成型的大面积投影光刻系统中,使得该系统的对位精度与对位效率显著地提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周金运	广东工业大学物理与光电工程学院	53	251	9.0	13.0
2	雷亮	广东工业大学物理与光电工程学院	27	59	5.0	6.0
3	王衢	广东工业大学物理与光电工程学院	5	16	3.0	3.0
4	李浪林	广东工业大学物理与光电工程学院	2	4	1.0	2.0