沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响

• 作者: 于景坤 刘涛 毛飞雄
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Mg薄膜 沉积压力
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 材料制备
• 页码范围: 102-104,110
• 分类号: TF341.5
• 字数: 2192字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6620.2012.02.006

摘要

采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大；薄膜呈(002)择优生长的柱状晶结构,且随着沉积压力的提高薄膜厚度先增加后减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于景坤	东北大学材料与冶金学院	141	900	16.0	22.0
2	刘涛	东北大学材料与冶金学院	50	152	7.0	10.0
3	毛飞雄	东北大学材料与冶金学院	2	5	1.0	2.0