Mo缓冲层在溅射ZnO薄膜中的应用

• 作者: 吴思诚 姚合宝 王旋 范海波 赵宝华 郑新亮
• 来源期刊: 中国钼业
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO薄膜 Mo薄膜 缓冲层
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 金属加工
• 页码范围: 37-40
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4+12
• 字数: 1597字
• 语种: 中文

摘要

ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景.本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜.通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵宝华	金堆城钼业股份有限公司技术中心	19	183	8.0	12.0
2	姚合宝	西北大学物理学系	54	228	8.0	11.0
3	郑新亮	西北大学物理学系	29	185	8.0	13.0
4	范海波	西北大学物理学系	9	43	3.0	6.0
5	王旋	西北大学物理学系	3	5	1.0	2.0
6	吴思诚	西北大学物理学系	1	0	0.0	0.0