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多层Ge纳米晶镶嵌Si基薄膜制备与光学特性
多层Ge纳米晶镶嵌Si基薄膜制备与光学特性
作者:
刘晓静
孙文超
宋美周
张君善
李宁
赵卓斋
高斐
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多层Ge纳米晶
磁控溅射
椭圆偏振光谱法
光学特性
量子限域效应
摘要:
采用超晶格方法,利用射频磁控共溅射及在N2气氛中退火技术,制备了多层Ge纳米晶(Ge-ncs)镶嵌Si基复合薄膜(Ge-ncs+SiO2/GeO2).同时采用椭圆偏振光谱法,研究了Ge-ncs的光学性质,并用sp3紧束缚理论模式,解释了Ge-ncs带隙宽化现象.结果表明:用超晶格方法制备的多层Ge-ncs具有密度高、尺寸和位置分布均匀的优点,纳米晶平均尺寸为9.8nm.复合薄膜(Ge-ncs+SiO2/GeO2)具有正常色散的特性,且在1 340nm处具有较强烈的吸收特性;Ge-ncs的光学带隙为0.82eV,与块体Ge材料相比,Ge-ncs吸收谱显示出0.16eV的带隙宽化.这种现象主要是由Ge-ncs中的量子限制效应导致的,采用sp3紧束缚理论模式可得到很好解释.
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文献信息
篇名
多层Ge纳米晶镶嵌Si基薄膜制备与光学特性
来源期刊
陕西师范大学学报:自然科学版
学科
教育
关键词
多层Ge纳米晶
磁控溅射
椭圆偏振光谱法
光学特性
量子限域效应
年,卷(期)
2012,(5)
所属期刊栏目
物理学
研究方向
页码范围
23-26
页数
4页
分类号
G633.7
字数
2812字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李宁
陕西师范大学物理学与信息技术学院
62
209
7.0
12.0
2
张君善
陕西师范大学物理学与信息技术学院
4
4
1.0
1.0
3
高斐
陕西师范大学物理学与信息技术学院
26
39
3.0
5.0
4
刘晓静
陕西师范大学物理学与信息技术学院
14
23
2.0
4.0
5
宋美周
陕西师范大学物理学与信息技术学院
5
6
2.0
2.0
6
赵卓斋
6
4
1.0
2.0
7
孙文超
西北工业大学软件与微电子学院
1
1
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2016(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
多层Ge纳米晶
磁控溅射
椭圆偏振光谱法
光学特性
量子限域效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
陕西师范大学学报(自然科学版)
主办单位:
陕西师范大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-4291
CN:
61-1071/N
开本:
大16开
出版地:
陕西省西安市长安南路
邮发代号:
52-109
创刊时间:
1960
语种:
chi
出版文献量(篇)
3025
总下载数(次)
7
总被引数(次)
18459
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