含氟紫外纳米压印光刻胶的研制

• 作者: 刘彦伯 周伟民 张剑平 张燕萍 张静 施利毅 王金合 赵彬
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外纳米压印 光刻胶 含氟助剂 接触角 脱模
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 471-477
• 分类号: TQ577.35
• 字数: 4252字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2012.07.009

摘要

从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺.在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用.使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接触角数据预测了光刻胶的脱模能力.通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过实验数据筛选出了最佳配方.研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏附力,且具有良好的脱模能力.