基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
本文以国产瑞红RZJ304正胶为载体,基于光刻工艺环节中各工艺参数要求,以线宽1、2、5微米的叉指电极为标准,重点研究各工艺参数如曝光强度、曝光时间以及显影时间等关键因素对光刻效果的影响程度;以此表征该类型光刻胶良好的光刻效果,为后续实际器件加工与应用奠定基础。
推荐文章
ITO玻璃光刻工艺的研究
ITO
光刻
曝光时间
显影时间
刻蚀时间
SU-8胶光刻工艺研究
SU-8胶
高深宽比
光刻
Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究
H.B.
P.E.B
焦深容宽
孔光刻
通孔光刻
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 国产苏州瑞红RZJ304光刻正胶应用工艺研究
来源期刊 产业与科技论坛 学科 工学
关键词 光刻工艺 正胶 叉指电极
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目 科技创新
研究方向 页码范围 76-77
页数 2页 分类号 TN305.7
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-5641.2012.04.039
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴海涛 济南大学材料科学与工程学院 25 194 10.0 13.0
2 李娟 济南大学材料科学与工程学院 3 26 2.0 3.0
3 冯婷婷 济南大学材料科学与工程学院 3 2 1.0 1.0
4 陈相逢 济南大学材料科学与工程学院 1 2 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (30)
共引文献  (13)
参考文献  (2)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1983(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1987(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1988(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1990(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1994(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1995(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1996(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1997(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1998(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
1999(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2000(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2001(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2002(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2003(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2004(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2005(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2006(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2008(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2009(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2010(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2011(3)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(1)
2012(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2014(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
光刻工艺
正胶
叉指电极
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
产业与科技论坛
半月刊
1673-5641
13-1371/F
大16开
河北省石家庄市
18-181
2006
chi
出版文献量(篇)
43551
总下载数(次)
161
总被引数(次)
66232
论文1v1指导