热处理对大直径半绝缘砷化镓中EL2缺陷的影响

• 作者: 刘彩池 刘红艳 王丽华 解新建 郝秋艳
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 半绝缘砷化镓 热处理 EL2缺陷 微区红外测量技术
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 9-12
• 分类号: TB34
• 语种: 中文

摘要

利用金相显微镜和微区红外测量技术分析热处理对液封直拉法生长的大直径半绝缘砷化镓（LECSI-GaAs）单晶中深施主缺陷EL2的影响。结果表明，原生大直径SI—GaAs样品中EL2缺陷浓度沿直径方向的分布呈现中心区域较高、近中心区域最低、边缘区域最高的特点。500℃退火EL2缺陷浓度稳定，真空闭管并快速冷却条件下850℃以上退火时，EL2缺陷浓度随温度升高而下降。并分析了热处理对EL2缺陷的影响机理。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘彩池	河北工业大学材料学院	63	305	11.0	14.0
2	郝秋艳	河北工业大学材料学院	37	179	9.0	12.0
3	解新建	河北工业大学材料学院	10	57	4.0	7.0
4	刘红艳	河北工业大学材料学院	3	4	1.0	2.0
5	王丽华		1	1	1.0	1.0