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摘要:
在半导体投影光刻机中,对因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作了详细分析,提出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型,并着重分析了CMP型对准标记和金属淀积型标记的相应特点。
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文献信息
篇名 投影光刻中非对称型相位光栅对准信号及对准误差计算模型
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 相位光栅 非对称型对准标记 衍射效率 对准信号 对准误差
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目 光刻技术与设备
研究方向 页码范围 19-23
页数 5页 分类号 TN305.7
字数 2728字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.05.006
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研究主题发展历程
节点文献
相位光栅
非对称型对准标记
衍射效率
对准信号
对准误差
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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