Ti缓冲层对ZnO薄膜吸收特性和荧光光谱的影响

• 作者: 刘静 张小雷 李发明 杨付超 赵强 靳钰珉 马书懿 马李刚 黄新丽
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti缓冲层 紫外-可见光吸收光谱 荧光光谱 ZnO薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（24）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 3337-3340
• 页数: 4页
• 分类号: O484.41|O484.5
• 字数: 3529字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在Si衬底和玻璃衬底上制备了ZnO/Ti薄膜,利用紫外-可见分光光度计和荧光分光光度计等技术表征了ZnO/Ti薄膜的光学特性,研究了Ti缓冲层的厚度对ZnO薄膜的影响。透射吸收光谱显示所有ZnO薄膜在可见光区域的平均透过率超过80%,当引入缓冲层后,薄膜的紫外吸收边先向长波方向移动,且随着缓冲层厚度的增加紫外吸收边向短波方向移动。薄膜的荧光光谱显示,所有样品出现了位于390nm的紫外发光峰,435和487nm的蓝光双峰以及525nm的绿光峰,并对各发光峰的来源进行了探讨。