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磁控溅射镀膜的原理与故障分析
磁控溅射镀膜的原理与故障分析
作者:
郝晓亮
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
物理气象淀积
磁控溅射
故障分析
镀膜工艺
摘要:
介绍了磁控溅射镀膜的种类及特点。以直流磁控溅射为例,介绍了其结构、原理,分析了影响磁控溅射工艺稳定性的因素。最后总结了磁控溅射镀膜工艺中常见的故障以及解决方法。
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磁控溅射
耐蚀性能
防腐
镀镆
内容分析
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文献信息
篇名
磁控溅射镀膜的原理与故障分析
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
物理气象淀积
磁控溅射
故障分析
镀膜工艺
年,卷(期)
2013,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
57-60
页数
4页
分类号
TN305.92
字数
3484字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郝晓亮
中国电子科技集团公司第十三研究所
6
71
2.0
6.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
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磁控溅射
故障分析
镀膜工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
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