沉积气压对脉冲激光沉积CNx薄膜结构和摩擦学特性的影响

• 作者: 杨芳儿 沈涛 郑晋翔 郑晓华 陈占领
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 物理学
• 关键词: CNx薄膜 脉冲激光沉积(PLD) X射线光电子能谱(XPS) 拉曼(Raman)光谱 摩擦与磨损
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 1126-1132
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

以脉冲激光沉积(PLD)的CNx材料为靶源,以单晶Si片为衬底,在N2气压为2～11 Pa下PLD制备了CNx薄膜.采用X射线光电子能谱(XPS)、拉曼(Raman)光谱、扫描电子显微镜(SEM)和球盘式摩擦磨损试验机分别对薄膜的化学成分、价键状态、表面形貌和摩擦性能进行了表征.结果表明:低沉积气压导致薄膜N含量的退化及耐磨性能的下降；沉积气压介于5～8 Pa时最利于sp3杂化键的形成,且薄膜的N含量缓慢下降,膜中比值xsp2 /xsp3和ID/IG均减小,xsp2C-N/Xsp 3C-N增加并趋于恒定,薄膜的耐磨性较好(约2.7～4.3×10-15 m3·N-1·m-1),但摩擦系数相对较高(约0.24～0.25)；过高的气压导致膜层中N含量的下降和石墨化程度的增加,薄膜摩擦系数较低(约0.19),但耐磨性呈下降趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑晓华		35	161	7.0	10.0
2	杨芳儿		32	87	6.0	7.0
3	沈涛		5	11	2.0	3.0
4	郑晋翔		4	10	2.0	3.0
5	陈占领		4	5	1.0	2.0