纳米CoFe2O4掺杂对PVDF薄膜相结构和铁电性能的影响

• 作者: 韩伟 魏本杰
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 浇铸成膜 CoFe2O4 PVDF β相 介电性能 铁电性能
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: TM22
• 字数: 3244字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2013.12.005

摘要

采用浇铸成膜工艺在80℃下制备了纳米CoFe2O4掺杂的PVDF薄膜,利用XRD、SEM、FT-IR和铁电材料参数测试仪等研究了CoFe2O4的掺杂量对β相PVDF的相对含量及所制复合膜的介电和铰电性能的影响.结果表明:当CoFe2O4掺杂量为0.2％(质量分数)时,复合膜中β相PVDF的相对含量高达73.5％;样品在频率70 Hz,电场强度6× 104 V/cm时的最大极化强度为4.26× 10-6 C/cm2;当频率为1kHz,偏压为1V时,样品的相对介电常数和损耗角正切值分别为9.8和0.074.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩伟	华中科技大学光学与电子信息学院	6	8	2.0	2.0
2	魏本杰	华中科技大学光学与电子信息学院	2	5	1.0	2.0