保持温度对偏轴磁控溅射法制备BiFeO3薄膜结构和性能的影响

• 作者: 刘保亭 张宪贵 彭增伟 朱慧娟 贾冬梅 郝彦磊
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 偏轴磁控溅射 保持温度 XRD BiFeO3
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 页码范围: 246-250
• 页数: 5页
• 分类号: O614.53+2
• 字数: 3201字
• 语种: 中文

摘要

本文采用偏轴磁控溅射方法在Pt/TiO2/SiO2/Si(111)基片上制备了多晶BiFeO3 (BFO)薄膜,并构架了Pt/BFO/Pt异质结电容器.利用X射线衍射(XRD)、铁电测试仪等手段研究了保持温度对BFO薄膜结构和性能的影响.XRD图谱表明制备的BFO薄膜均为多晶结构,在保持温度400℃±2℃的区间内得到的BFO薄膜不含明显杂相,其它的温度均有明显的杂相.在保持温度为400℃时得到了较为饱和的电滞回线,在900nm厚度的情况下,剩余极化强度仍可以达到Pr＞ 40 μC/cm2,达到了实际应用的要求Pr＞10μC/cm2.漏电流拟合机制表明在低场下属于欧姆机制,在高场下比较接近空间电荷限制电流(SCLC)机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘保亭	河北大学物理科学与技术学院	84	302	10.0	13.0
2	朱慧娟	河北大学物理科学与技术学院	4	7	1.0	2.0
3	彭增伟	河北大学物理科学与技术学院	7	16	3.0	3.0
4	贾冬梅	河北大学物理科学与技术学院	3	8	2.0	2.0
5	郝彦磊	河北大学物理科学与技术学院	3	8	2.0	2.0
6	张宪贵	河北大学物理科学与技术学院	2	6	1.0	2.0