以光辅助MOCVD法在有取向Ni衬底及LAO单晶衬底上制备YBCO外延膜的比较研究

• 作者: 周本初 张宝林 李伟 李善文 李国兴 陶伯万 高忠民
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: YBa2Cu3O7-x(YBCO) Ni衬底 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) 光辅助MOCVD
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 无机化学
• 页码范围: 527-531
• 页数: 5页
• 分类号: O614|O511
• 字数: 2826字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7503/cjcu20120656

摘要

采用光辅助金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法,在生长有CeO2/YSZ/Y2 O3(YSZ为Y稳定的ZrO2)缓冲层的双轴取向Ni衬底上进行了YBa2 Cu3 O7_x(YBCO)外延膜生长,并与LaAlO3(100)[LAO(100)]单晶衬底上的YBCO外延膜生长进行了对比.发现在Ni衬底上c轴取向YBCO外延膜的生长温度比LAO衬底上的生长温度低约30℃,但生长速度更快.经分析认为,这种差别主要是由于Ni衬底的热导率比LAO衬底高造成的.Ni衬底及LAO衬底上生长的c轴取向YBCO外延膜的超导极限电流密度(Jc)分别约为0.5 MA/cm2及1.8 MA/cm2.