光刻机自动对准工作台控制系统设计

• 作者: 刘玄博 周庆奎
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模光刻机 工作台 控制系统
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 42-44,56
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 959字
• 语种: 中文

摘要

光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件，直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作；结构设计紧凑精巧，包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度，目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm ，因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玄博	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	8	2.0	2.0
2	周庆奎	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	11	2.0	3.0