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利用霍尔效应研究热退火对黑硅材料电学性质的影响
利用霍尔效应研究热退火对黑硅材料电学性质的影响
作者:
刘平安
王科范
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
黑硅
霍尔效应
载流子浓度
迁移率
摘要:
利用霍尔效应测量了不同温度热退火后的黑硅的霍尔系数、载流子浓度、载流子迁移率和电导率。随着热退火温度的升高,黑硅内载流子的浓度缓慢下降,载流子迁移率却同步增加,这说明黑硅内载流子散射的主要形式是电离杂质散射。
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文献信息
篇名
利用霍尔效应研究热退火对黑硅材料电学性质的影响
来源期刊
物理实验
学科
物理学
关键词
黑硅
霍尔效应
载流子浓度
迁移率
年,卷(期)
2014,(10)
所属期刊栏目
实验教学
研究方向
页码范围
1-3,7
页数
4页
分类号
O484.42
字数
2353字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王科范
河南大学微系统物理研究所
8
9
2.0
2.0
5
刘平安
河南大学普通物理实验教学中心
11
63
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黑硅
霍尔效应
载流子浓度
迁移率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理实验
主办单位:
东北师范大学
出版周期:
月刊
ISSN:
1005-4642
CN:
22-1144/O4
开本:
大16开
出版地:
长春市人民大街5268号东北师范大学内
邮发代号:
12-44
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
3869
总下载数(次)
22
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