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摘要:
在10 kW微波等离子化学气相沉积装置中,采用甲烷和氢气作为气源,在直径为50 mm的P型(100)单晶硅片上进行了不同甲烷浓度条件下金刚石薄膜的制备研究.利用扫描电子显微镜和激光Raman光谱仪对所制备的金刚石膜进行表征.结果表明:较高的甲烷浓度(2%,体积分数)虽然可以加快金刚石膜生长速率,但离解反应气体的能量相对减弱,晶粒尺寸较小;此时原子氢刻蚀作用也会较弱,非金刚石相含量增加,残留的杂质越来越多,金刚石纯度不高,薄膜的质量较差.随着甲烷浓度的降低,金刚石膜(100)晶面充分显现,薄膜质量逐渐变好.然而过低的甲烷浓度(0.5%,体积分数)会导致有利于金刚石生长的含碳活性基团含量降低,使金刚石膜生长缓慢,晶粒尺寸难以长大.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 甲烷浓度对金刚石膜沉积质量的影响
来源期刊 武汉工程大学学报 学科 物理学
关键词 微波等离子 金刚石膜 甲烷浓度 质量
年,卷(期) 2014,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 29-33
页数 5页 分类号 O539|O484.1
字数 4142字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-2869.2014.05.007
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武汉工程大学学报
双月刊
1674-2869
42-1779/TQ
大16开
武汉市江夏区流芳大道特1号,武汉工程大学流芳校区,西北区1号楼504学报编辑部收
1979
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