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摘要:
随着GaAs PHEMT(赝配高电子迁移率晶体管)器件的广泛应用,器件的可靠性及失效分析方法越来越受到人们的重视。该文采用半导体参数分析仪、聚焦离子束(FIB)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDX)等分析方法对一种PHEMT器件进行失效分析,为实际生产和加工过程中的失效分析提供了参考。
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文献信息
篇名 一种GaAs PHEMT器件的失效分析
来源期刊 电子质量 学科 工学
关键词 GaAs PHEMT 失效分析
年,卷(期) 2014,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 18-20
页数 3页 分类号 TN3
字数 624字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 胡国俊 中国电子科技集团公司第三十八研究所 9 14 2.0 3.0
2 祝进专 中国电子科技集团公司第三十八研究所 2 0 0.0 0.0
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失效分析
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电子质量
月刊
1003-0107
44-1038/TN
大16开
广州市五羊新城广兴花园32号一层
46-39
1980
chi
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15176
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