退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 孙冬晓 方芳 方铉 李金华 楚学影 王晓华 陈新影 魏志鹏
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积 ZnMgO薄膜 退火温度
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 页码范围: 1789-1792
• 页数: 4页
• 分类号: O439
• 字数: 2671字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3964/j.issn.1000-0593(2014)07-1789-04

摘要

针对目前关于退火温度对原子层沉积法（ALD）制备ZnMgO薄膜晶体结构和光学性质影响鲜有报道的现象，进行了相应的实验研究分析。采用ALD在石英衬底上制备ZnMgO合金薄膜，对制得的样品在空气中进行不同温度的退火处理。利用X射线多晶衍射仪（XRD）、光致发光谱（PL）和紫外可见（UV-Vis）吸收光谱测试，系统的分析了不同退火温度对ALD法制备ZnMgO薄膜晶体结构和光学性能的影响。XRD测试结果表明：退火温度为600℃时，薄膜的晶体质量得到改善，且（100）衍射峰的强度明显增强。结合PL和UV-Vis吸收光谱的测试分析得出：退火温度为600℃时，能明显促进薄膜中Mg组分的增加使薄膜的禁带宽度进一步增大。从而说明适当温度的退火处理可有效的改善ZnM gO薄膜的晶体质量及光学特性。