水杨酸体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

• 作者: 储向峰 叶明富 孙文起 王婕 白林山 董永平
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钌 化学机械抛光 水杨酸
• 年，卷（期）: 2014,（12）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 3120-3123
• 页数: 4页
• 分类号: TG175.3
• 语种: 中文

摘要

研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响.采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌.结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3％时,抛光速率值随浓度的增加而降低.抛光后的金属钉表面平均粗糙度Ra为7.2 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰		59	209	6.0	11.0
2	董永平		45	183	7.0	11.0
3	白林山		60	293	10.0	14.0
4	孙文起		15	45	3.0	6.0
5	叶明富		49	104	5.0	8.0
6	王婕		4	18	2.0	4.0