光刻机双面对准精度测量系统

• 作者: 张云鹏 李霖 杨建章 贾亚飞
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 测试测量技术 光刻机 双面对准精度 双面对准精度测量系统
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 42-45
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1358字
• 语种: 中文

摘要

双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标，介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统，并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理，对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云鹏	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	3	1.0	1.0
2	贾亚飞	中国电子科技集团公司第四十五研究所	3	1	1.0	1.0
3	李霖	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	12	2.0	3.0
4	杨建章	中国电子科技集团公司第四十五研究所	1	1	1.0	1.0