射频磁控溅射法在柔性聚酰亚胺衬底上制备ZnS薄膜及其特性研究

• 作者: 温楚雄 许佳雄 辛辅炼 邱莎莎 魏坚烽 黄俊彬
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: ZnS薄膜 柔性衬底 磁控溅射 XRD 透射率
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 756-759,764
• 分类号: TN304.2
• 语种: 中文

摘要

为使Ⅱ-Ⅵ族化合物ZnS薄膜具有可弯曲性,选用柔性的聚酰亚胺作为衬底材料,用射频磁控溅射法沉积ZnS薄膜,对所制备薄膜的结晶结构、组分和光学特性进行分析.实验结果表明,所制备薄膜为结晶态的闪锌矿ZnS结构,择优取向为(111)晶面,晶粒尺寸为25.6 nm.薄膜组分接近化学计量比,并具有少量的S损失.薄膜在可见光区和近红外光区的平均透射率分别为82.0％和90.5％,透光特性良好.作为对比,在钠钙玻璃衬底上溅射的ZnS薄膜的结晶度高于聚酰亚胺衬底薄膜,但其透射率略低于柔性ZnS薄膜.实验结果表明了用磁控溅射法在柔性聚酰亚胺衬底上制备ZnS薄膜的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许佳雄	广东工业大学材料与能源学院	10	14	2.0	3.0
2	辛辅炼	广东工业大学材料与能源学院	2	2	1.0	1.0
3	魏坚烽	广东工业大学材料与能源学院	1	0	0.0	0.0
4	黄俊彬	广东工业大学材料与能源学院	1	0	0.0	0.0
5	温楚雄	广东工业大学材料与能源学院	1	0	0.0	0.0
6	邱莎莎	广东工业大学材料与能源学院	1	0	0.0	0.0