氧分压对直流磁控溅射氧化钨薄膜结构和组成的影响

• 作者: 侯朝霞 温佳星 王美涵 龙海波
• 来源期刊: 沈阳大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钨薄膜 磁控溅射 氧分压 结构 组成
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与化工
• 页码范围: 93-97
• 页数: 5页
• 分类号: TB381
• 字数: 3762字
• 语种: 中文

摘要

采用直流反应磁控溅射,在不同氧分压条件下制备了氧化钨薄膜,并对薄膜进行了热处理.通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、能谱(EDS)、X射线光电子能谱(XPS)和紫外-可见光谱(UV-VIS)等手段表征了氧化钨薄膜的晶体结构、表面形貌、化学组成以及透射率.结果表明:沉积所得氧化钨薄膜均为无定形结构,经400℃热处理后转变为单斜晶体结构;薄膜表面形貌受氧分压和热处理影响较大;沉积所得氧化钨薄膜的化学分子式应为WO3-x形式,热处理使得薄膜的成分趋近于WO3;薄膜颜色随着氧分压的增加逐渐变浅,当氧分压达到0.2Pa以上时,薄膜呈现完全透明.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯朝霞	沈阳大学机械工程学院	40	149	6.0	11.0
2	王美涵	沈阳大学机械工程学院	31	76	5.0	7.0
3	龙海波	沈阳大学机械工程学院	26	143	7.0	11.0
4	温佳星	沈阳大学机械工程学院	5	21	3.0	4.0