PECVD制备非晶硅薄膜的均匀性控制方法研究

• 作者: 何存玉 刘永 刘爽 尹潘薇 陈德军
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶硅薄膜 PECVD 均匀性
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 951-953
• 分类号: TB383.2
• 语种: 中文

摘要

针对用于制备非晶硅薄膜的PECVD设备反应室的流体场进行了模拟仿真,并实验制备了相对应条件下的非晶硅薄膜,利用台阶仪完成了对薄膜厚度的测量,对比仿真结果,发现薄膜的厚度分布情况与基片表面附近的气流分布情况密切相关,获得均匀性优于2.5％非晶硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘爽	电子科技大学光电信息学院	65	410	11.0	17.0
2	刘永	电子科技大学光电信息学院	52	105	5.0	7.0
3	陈德军	电子科技大学光电信息学院	12	39	4.0	6.0
4	何存玉		2	2	1.0	1.0
5	尹潘薇		2	2	1.0	1.0