氮气压强对PLD制备ZnO薄膜形貌及光电性能的影响

• 作者: 吴克跃 吴兴举
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO 氮气 脉冲激光沉积 光电性能
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 190-194
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3057字
• 语种: 中文

摘要

研究了氮气压强对脉冲激光沉积(PLD)法制备ZnO薄膜形貌及光电学性能的影响.结果表明,当氮气压强较低时,ZnO薄膜是由尺寸为50 nm的薄片组成;当氮气压强增加后,ZnO薄膜变成多孔状,并且组成ZnO薄膜的颗粒尺寸逐渐减小.在氮气压强为20 Pa以上时,所制备的ZnO薄膜的光致荧光(PL)光谱是由380 nm的带边发光峰和520 nm的缺陷发光峰组成;当氮气压强较低时(5 Pa和2 Pa),ZnO薄膜的PL光谱只有一个位于400 nm或41O nm处的发光峰.电学方而,2Pa和5 Pa氮气压强下制备的ZnO薄膜的电阻率约为氮气压强为20 Pa和50 Pa下制备样品的104和105倍.研究表明,当氮气压强较低时,Zn离子和O离子具有较大平均自由程和较大平均动能,因此易使N2离子化,可以使部分N离子掺入ZnO晶格中.当氮气压强较高时,Zn离子和O离子平均动能较小,不易使N2离子化,氮难于掺入ZnO晶格中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴兴举	皖西学院材料与化工学院	29	25	3.0	3.0
2	吴克跃	皖西学院材料与化工学院	25	43	4.0	5.0