脉冲激光沉积结合快速退火制备SnS薄膜及其表征

• 作者: 余亮 刘磊 李学留 梁齐 郭慧尔 陈士荣 马明杰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: SnS薄膜 脉冲激光沉积 快速退火 光学特性
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 72-79
• 分类号: TN304|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.01.13

摘要

利用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上生长、并经Ar保护下快速退火制备SnS薄膜.利用X射线衍射、拉曼光谱、X射线能量色散谱、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计等表征手段,对不同条件(脉冲激光能量:90和140 mJ;退火温度:100～400℃)下制备SnS薄膜的晶体结构、化学组分、表面形貌、光学特性等进行表征分析.结果表明:脉冲激光能量为140mJ、退火温度为300℃时所制备的SnS薄膜结晶质量良好、择优取向生长良好、成分接近理想配比(Sn:S=1:1.03)、光吸收系数为105 cm-1量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘磊	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	35	165	7.0	9.0
2	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
3	余亮	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	30	4.0	5.0
4	郭慧尔	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	12	59	5.0	7.0
5	李学留	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	23	3.0	4.0
6	马明杰	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	4	23	3.0	4.0
7	陈士荣	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	3	12	2.0	3.0