能量密度和重复频率对PLD法制备ZnS薄膜性质的影响

• 作者: 刘丹丹 文亚南 李学留 李琳 梁齐 马明杰
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: ZnS薄膜 脉冲激光沉积 能量密度 重复频率 择优取向 透过率
• 年，卷（期）: 2016,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 27-32
• 页数: 6页
• 分类号: TN304|O484
• 字数: 4783字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.08.007

摘要

利用脉冲激光沉积法在玻璃基片上、以不同的能量密度和重复频率制备了一系列ZnS薄膜.利用X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见-近红外分光光度计,对ZnS薄膜的晶体结构、化学组分、光学特性等进行表征.结果表明:所制备ZnS薄膜为富硫贫锌,结晶质量良好,为(002)晶面择优取向生长.能量密度为7.5 J/cm2、重复频率为2Hz是生长高质量ZnS薄膜的条件,其所制备的ZnS薄膜为纤锌矿结构,结晶程度最高,择优取向度最高(189.2),Zn/S摩尔比值接近化学计量比,堆积密度最大(0.967),可见光透过率高,禁带宽度为3.55 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
2	李琳	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	41	313	11.0	15.0
3	文亚南	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	8	21	3.0	4.0
4	李学留	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	23	3.0	4.0
5	刘丹丹	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	9	22	3.0	4.0
6	马明杰	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	4	23	3.0	4.0