沉积时间对磁控溅射法制备氮化硼薄膜相结构的影响

• 作者: 徐洋
• 来源期刊: 产业与科技论坛
• 关键词: 氮化硼薄膜 沉积时间 红外光谱 相转变
• 年，卷（期）: 2016,（23）
• 所属期刊栏目: 科技创新
• 页码范围: 62-63
• 页数: 2页
• 字数: 2535字
• 语种: 中文

摘要

利用射频磁控溅射方法,以六角氮化硼(hBN)为靶材,在单晶硅衬底上制备氮化硼(BN)薄膜,系统地研究了沉积时间对BN薄膜相结构的影响.红外光谱分析表明,随着沉积时间的增加,薄膜中hBN相含量减少,正交氮化硼(oBN)相含量增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐洋		3	6	2.0	2.0