LTPS工艺中光刻胶与膜层粘附力的研究

• 作者: 刘昊 剧永波 孙宏伟 张宸铭 张龙泉 熊正平 白贺鹏 简月圆 罗少先 赵东升 陈建军
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 粘附力 光刻胶 钼 钛 氧化铟锡 多晶硅 非晶硅 氮化硅
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 190-195
• 页数: 6页
• 分类号: TP394.1|TH691.9
• 字数: 3606字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20173203.0190

摘要

本文对影响LTPS工艺中光刻胶和衬底间粘附力的4个因素进行了实验及理论分析.经实验发现:衬底的材质和粗糙度以及光刻胶中分子量的分布是影响光刻胶和衬底粘附力的最重要的两个因素.在改善粘附力方面HMDS对于电负性较强的金属衬底和光刻胶的粘附力有较好的改善效果,对于SiNX、A-Si及P-Si衬底改善效果明显,且无差异,对于ITO没有改善.光刻胶涂布后适当延长烘烤时间也可以有效改善光刻胶和衬底的粘附力.