气体放电伏安特性对TiN薄膜结构和性能的影响

• 作者: 冯林 杨超 蒋百灵 郝娟
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 伏安特性 TiN薄膜 热发射 离化率
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 1419-1424
• 页数: 6页
• 分类号: TG43
• 语种: 中文

摘要

针对溅射离子镀离化率低及多弧离子镀易产生微米级熔滴喷溅这一长期制约离子镀技术发展的难题,依据金属靶材内部电子在通过电阻值较大的组织缺陷处会导致该区域温度上升的焦耳热效应和金属表面高温下电子热发射等物理学现象,建立以离子碰撞和靶材热发射为脱靶机制的新型微弧离子镀技术.通过氩离子的轰击动能和金属靶材内电流的焦耳热效应共同促使靶面缺陷处温度迅速上升,增加了该区域内电子和原子的动能使其能够克服表面势垒从靶材表面大量逸出.等离子区内靶材原子和电子数量的增加提高了镀料粒子的碰撞离化率,且靶面未出现明显电弧避免了靶材表面的熔融喷溅,从而获得高离化率和高密度的镀料粒子.实验结果表明:微弧离子镀技术制备的TiN薄膜具有致密的结构、良好的表面质量、较高的显微硬度、较强的膜基结合力和良好的抗腐蚀性能.