磁控溅射参数对Al薄膜微观结构及红外特性的影响研究

• 作者: 刘东青 张朝阳 李阳 程海峰 郑文伟
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 磁控溅射 Al薄膜 微观结构 红外特性
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 172-175,179
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

利用磁控溅射法在Si(100)基片上制备了Al薄膜,采用X射线衍射、扫描电镜、扫描探针显微镜和红外光谱仪研究了基片温度、溅射功率和溅射时间对Al薄膜表面、断面形貌和红外反射率的影响.结果表明:随着基片温度的升高,Al颗粒的尺寸变大,由均匀细颗粒变为不规则形状,并逐渐熔为一个整体,断面形貌变得凹凸不平,表面粗糙度增大,红外反射率呈下降的趋势;随着溅射功率的增大,Al薄膜致密平整,表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变;随着溅射时间的延长,Al薄膜表面粗糙度增大,红外反射率先增大后不变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张朝阳		9	37	2.0	6.0
2	程海峰		21	209	6.0	14.0
3	刘东青		7	4	1.0	2.0
4	郑文伟		7	46	2.0	6.0
5	李阳		4	2	1.0	1.0