原子层沉积技术发展概况

• 作者: 旷小聪 李刘合 苗虎
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积技术 前驱体 技术特征 等离子体增强原子层沉积 电化学原子层沉积 空间原子层沉积 流化床 大气压原子层沉积
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 页码范围: 51-58
• 页数: 8页
• 分类号: O487
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.04.12

摘要

主要介绍了原子层沉积技术的历史背景、原理(包括两种自限制的反应机制、前驱体的要求与分类)以及原子层沉积本身作为一种涂层制备技术的特征和优势.重点叙述了近年来原子层沉积技术在设备和工艺方面的发展状况和最新研究成果.最后,对原子层沉积技术的发展与前景分别进行了总结和展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李刘合	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	39	653	12.0	25.0
2	苗虎	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	3	9	2.0	3.0
3	旷小聪	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	1	2	1.0	1.0