磁控溅射功率对玻璃基DLC薄膜的结构和硬度的影响

• 作者: 刘翔 张泽华 曾瑧 李渊 董玉红 赵杰 赵青南
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: DLC薄膜 硬度 磁控溅射功率 过渡层SiC
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 3049-3053
• 页数: 5页
• 分类号: TQ171
• 字数: 3344字
• 语种: 中文

摘要

用直流-射频磁控溅射镀膜工艺,在不同的溅射功率条件下,制备了玻璃/SiC/DLC(diamond-like carbon)薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、纳米显微硬度仪,研究了DLC薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、维氏硬度.结果表明,随着功率的增大,ID/IG值先增大后减小,薄膜硬度呈现先增大后减小的趋势;当溅射功率为200 W时,ID/IG值为0.56,镀膜玻璃的硬度值最大(830 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了23.88％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵青南	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	45	423	12.0	19.0
3	刘翔	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	22	118	8.0	10.0
6	董玉红		14	18	2.0	4.0
7	张泽华	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	6	8	2.0	2.0
8	李渊	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	3	4	1.0	1.0
9	曾瑧	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	2	3	1.0	1.0