TFT中底栅Cu膜凸起现象研究

• 作者: 吴登刚 夏杰 徐佳慧 朱元 高搏剑
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜晶体管 铜凸起 绝缘膜 H2预处理
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 材料·工程
• 页码范围: 10-11
• 页数: 2页
• 分类号: TN911.7
• 字数: 1188字
• 语种: 中文

摘要

超高清显示器需要具有低的信号传输层,Cu膜取代Al膜.针对绝缘膜高温下,底栅Cu膜,在玻璃边缘小黑点的现象,通过OM和FIB分析,确认为Cu膜凸起.本文通过实验提出一种H2预处理方式,利用H2的还原性,去除Cu表面氧化物,释放Cu膜内部应力,降低Cu膜凸起的发生率,在实际生产过程中具有应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐佳慧		3	0	0.0	0.0
2	高搏剑	东华大学信息科学与技术学院	3	0	0.0	0.0
4	吴登刚		3	0	0.0	0.0
5	朱元		5	0	0.0	0.0
6	夏杰		3	0	0.0	0.0