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摘要:
报道了制备在50mm石英玻璃衬底上的透明氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT),采用了底栅和顶栅两种结构进行比较.ZnO沟道层由射频磁控溅射方法制备,SiO2薄膜作为栅绝缘层.结果发现底栅结构的ZnO-TFT具有较好的电学性质,该器件工作在n沟道增强模式,具有较好的夹断效应和饱和特性,其场效应迁移率、阈值电压和电流开关比分别为18.4cm2/(V·s),-0.5V和104.顶栅结构的ZnO-TFT则工作在n沟道耗尽模式,没有明显的饱和特征.不同结构ZnO-TFT电学性质的差别可能是由于不同的ZnO/SiO2界面特性所致.两种结构的ZnO-TFT在可见光波段都有很高的光学透过率.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 底栅和顶栅结构全透明氧化锌薄膜晶体管的制备
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 氧化锌 薄膜晶体管 结构 界面
年,卷(期) 2008,(5) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 859-862
页数 4页 分类号 O472+.4
字数 722字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.05.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张新安 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 14 56 6.0 6.0
3 张伟风 河南大学物理与电子学院 66 248 8.0 10.0
4 侯洵 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 46 244 9.0 13.0
5 王东 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 25 127 8.0 10.0
6 张景文 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 20 109 7.0 9.0
9 毕臻 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 4 33 3.0 4.0
10 边旭明 西安交通大学信息光子技术省重点实验室 2 6 1.0 2.0
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氧化锌
薄膜晶体管
结构
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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