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底栅和顶栅结构全透明氧化锌薄膜晶体管的制备
底栅和顶栅结构全透明氧化锌薄膜晶体管的制备
作者:
侯洵
张伟风
张新安
张景文
毕臻
王东
边旭明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氧化锌
薄膜晶体管
结构
界面
摘要:
报道了制备在50mm石英玻璃衬底上的透明氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT),采用了底栅和顶栅两种结构进行比较.ZnO沟道层由射频磁控溅射方法制备,SiO2薄膜作为栅绝缘层.结果发现底栅结构的ZnO-TFT具有较好的电学性质,该器件工作在n沟道增强模式,具有较好的夹断效应和饱和特性,其场效应迁移率、阈值电压和电流开关比分别为18.4cm2/(V·s),-0.5V和104.顶栅结构的ZnO-TFT则工作在n沟道耗尽模式,没有明显的饱和特征.不同结构ZnO-TFT电学性质的差别可能是由于不同的ZnO/SiO2界面特性所致.两种结构的ZnO-TFT在可见光波段都有很高的光学透过率.
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篇名
底栅和顶栅结构全透明氧化锌薄膜晶体管的制备
来源期刊
半导体学报
学科
物理学
关键词
氧化锌
薄膜晶体管
结构
界面
年,卷(期)
2008,(5)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
859-862
页数
4页
分类号
O472+.4
字数
722字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2008.05.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张新安
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
14
56
6.0
6.0
3
张伟风
河南大学物理与电子学院
66
248
8.0
10.0
4
侯洵
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
46
244
9.0
13.0
5
王东
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
25
127
8.0
10.0
6
张景文
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
20
109
7.0
9.0
9
毕臻
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
4
33
3.0
4.0
10
边旭明
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
2
6
1.0
2.0
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2006(1)
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2007(4)
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二级参考文献(0)
2008(0)
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二级引证文献(0)
2010(1)
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引证文献(0)
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引证文献(2)
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研究来源
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研究去脉
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半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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