脉冲激光沉积技术制备超导铌薄膜及其特性研究

• 作者: 卢维尔 夏洋 彭明娣 李楠 王桐 赵丽莉
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 超导Nb金属薄膜 超导转变温度 超导性能 结晶特性
• 年，卷（期）: 2018,（z1）
• 所属期刊栏目: 光、电、磁功能材料
• 页码范围: 105-109
• 页数: 5页
• 分类号: TN604
• 字数: 4216字
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅衬底上制备超导 Nb薄膜,并通过 X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨 X射线光电子能谱(XPS)、综合物性测量系统(PPMS)等测试分析手段,分别考察了不同激光能量、靶基间距、衬底温度对 Nb薄膜晶体结构、表面形貌和电学性能的影响.结果表明,Nb 薄膜在(110)晶向择优生长,并且随着激光能量的增加,薄膜的结晶质量逐渐提高;合适的衬底温度和靶基间距有利于提高 Nb薄膜的结晶性能;在激光能量 280 mJ、靶基间距 5 cm、加热盘温度 650 ℃时制备所得 Nb薄膜在(110)晶面半峰宽(FWHM)为0.39°,超导转变温度(Tc)为 8.6 K,且 Nb 薄膜具有良好的结晶性能和超导特性.