磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响

• 作者: 李晓刚 肖葵 董超芳 骆鸿 高书君
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 304不锈钢 磁控溅射 镀膜 腐蚀
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 423-430
• 页数: 8页
• 分类号: TG172
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2019.156

摘要

通过磁控溅射技术制备了CrN薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法研究了N2分压、溅射功率以及夹杂物数量对CrN薄膜结构、成分、耐蚀性能的影响.结果 表明,提高N2分压能增加CrN相的含量,且CrN基体有明显的(111)和(200)面取向;降低溅射功率有利于使更多的Cr参与反应,生成更多的CrN.此外,夹杂物数量对薄膜质量有重大影响,夹杂物处不易镀上膜导致其耐蚀性明显下降.