掺铝ZnO透明导电膜动态制备及性能研究

• 作者: 周洪彪 肖昕 袁昭岚
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: AZO薄膜 射频磁控溅射 动态沉积 溅射气压
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 32-36
• 页数: 5页
• 分类号: TB332|TQ34
• 字数: 1445字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2019.04.009

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃上动态制备高质量的掺铝ZnO (AZO)透明导电膜,研究了动态沉积条件下AZO薄膜的膜厚和电阻率均匀性,以及溅射气压对AZO薄膜结构和光电性能的影响.结果 表明:在动态沉积模式下,获得了具有优良膜厚和电阻率均匀性;AZO薄膜在400～800 nm波长范围内的平均透过率高于90％;同时随着溅射气压的增加,晶粒尺寸从47.8 nm逐渐减小到41.4 nm,禁带宽度从3.46 eV逐渐降低到3.40 eV,电阻率先降低后上升,在0.5 Pa时电阻率为最低值1.5×10-3Ω·cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖昕	中国电子科技集团公司第四十八研究所	4	3	1.0	1.0
2	袁昭岚		2	0	0.0	0.0
3	周洪彪	中国电子科技集团公司第四十八研究所	4	0	0.0	0.0