浅析晶闸管光刻工艺原理

• 作者: 李鑫 马鹏鹏
• 来源期刊: 速读（上旬）
• 关键词: 晶闸管 光刻 工艺 原理
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 百家苑
• 页码范围: 242
• 页数: 1页
• 语种: 中文

摘要

光刻工艺是一种复印图像同化学腐蚀相结合的技术.它先采用照相复印的方法,把光刻版上的图形精确地复印在涂有感光胶的二氧化硅层或金属蒸发层上,然后利用光刻胶的保护作用,对二氧化硅或金属层进行选择性腐蚀,从而在二氧化硅或金属层上得到与光刻版相应的图形,本文对晶闸管光刻原理进行了基本的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马鹏鹏		3	0	0.0	0.0
2	李鑫		3	0	0.0	0.0