磁控溅射制备高循环稳定性的氟氧化铜薄膜研究

• 作者: 向勇 宋世湃 张晓琨 彭晓丽 彭翔
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 化学
• 关键词: 二水氟化铜(CuF2·2H2O) 氟氧化铜 磁控溅射 循环稳定性
• 年，卷（期）: 2020,（7）
• 所属期刊栏目: 新能源材料与器件专辑
• 页码范围: 28-34
• 页数: 7页
• 分类号: O646.54
• 字数: 4178字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.0339

摘要

以二水氟化铜(CuF2·2H2 O)为靶材,采用磁控溅射薄膜沉积工艺,制备了具有高循环稳定性的氟氧化铜薄膜.研究了工作气压对薄膜形貌、 厚度及成分的影响.X射线光电子能谱和循环伏安分析结果表明薄膜内部存在Cu—O键和Cu—F键,以及单质铜.0.55 Pa制备的氟氧化铜薄膜主要成分为2.4Cu-1.25CuO-0.5CuF2,50周循环可逆充放电比容量约为340 mAh/g.结果表明,磁控溅射方式能有效降低OH-的比例,实现氟氧化物电极的制备,提高了转化反应电极材料在高比能锂电池中的应用潜力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	向勇	电子科技大学材料与能源学院	22	100	6.0	9.0
2	彭翔	电子科技大学材料与能源学院	3	3	1.0	1.0
3	张晓琨	电子科技大学材料与能源学院	6	29	2.0	5.0
4	彭晓丽	电子科技大学材料与能源学院	2	0	0.0	0.0
5	宋世湃	电子科技大学材料与能源学院	1	0	0.0	0.0