248 nm透过率线性渐变光学薄膜的设计与制备

• 作者: 余振 张伟丽 易葵 朱瑞 陶春先
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 248 nm 线性渐变透过率 薄膜制备
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 162-166
• 页数: 5页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202047.0603001

摘要

线性渐变透过率薄膜元件是光刻系统中光可变衰减器的关键元件.采用电子束蒸发实现了近线性248 nm渐变透过率光学薄膜的设计与制备.通过对敏感度进行计算和优化,基于减反膜基础膜系实现了低敏感非规整膜系的设计.采用紫外光控-晶控组合的高精度膜厚监控措施,可使膜厚的控制精度达到0.3％,误差容忍度达到0.5％.在248 nm S偏振光照射下,采用JGS1熔融石英基片以及Al2O3和SiO2膜料制备的透射膜,在入射角为21°～35°的范围内实现了透过率从10％到97.8％的线性调控,满足光可变衰减器的性能需求.