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提升 Low K 晶圆划片良率与可靠性的组合划片 工艺研究
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文献信息
| 篇名 | 提升 Low K 晶圆划片良率与可靠性的组合划片 工艺研究 | ||
| 来源期刊 | 电子产品可靠性与环境试验 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | Low K;激光开槽;机械切割;热效应;可靠性 | ||
| 年，卷（期） | 2025,（6） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 9-15 | |
| 页数 | 7页 | 分类号 | |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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版权信息
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研究主题发展历程
节点文献
Low K;激光开槽;机械切割;热效应;可靠性
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期刊影响力
电子产品可靠性与环境试验
主办单位：
工业和信息化部电子第五研究所(中国电子产品可靠性与环境试验研究所)
出版周期：
双月刊
ISSN：
1672-5468
CN：
44-1412/TN
开本：
大16开
出版地：
广州市增城区朱村街朱村大道西78号
邮发代号：
创刊时间：
1962-01-01
语种：
中文
出版文献量（篇）
2803
总下载数（次）
0
总被引数（次）
9369
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