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电子工业专用设备2009年第8期出版文献
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
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总被引数（次）
10002
电子工业专用设备
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Equipment for Electronic Products Manufacturing
影响因子
0.2109
本刊为国内外公开发行的技术性刊物，以报道半导体设备及半导体产业链技术与材料为主要方向，以“公布新的科技成就，传播科技信息，交流学术思想，促进科技成果的商品化、产业化，为建设社会主义精神文明与物质文明服务”为本刊的为刊方针。发挥传媒优势，全方位服务于微电子行业的广大科技工作者。
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
期刊荣誉：
2001~2002年度标准化规范化部级奖
获2003~2004年度出版质量部级奖
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
100029
地址：
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
31
总被引数（次）
10002
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1. 浸没式光刻向22nm挺进刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2009年8期页码:摘要： 简述了光学光刻技术在双重图形曝光、高折射率透镜材料及浸没介质、32 nm光刻现状及22 nm浸没式光刻技术的进展,指出了光学光刻技术的发展趋势及进入22 nm技术节点的前景.
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2009年8期页码:摘要： 介绍了低温共烧陶瓷(LTCC)技术,并针对其核心设备-LTCC精密丝网印刷机的机械结构和采用的关键技术作了简明扼要的阐述.
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2009年8期页码:摘要： 静电放电问题是困扰包括半导体晶圆,液晶面板,太阳能模块的生产和加工等众多电子、光电子行业的顽疾.被动防止静电放电需要在加工材料选择,工艺流程优化,生产环境温湿度控制等众多环节加以严格限制,其...
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12. 行业动态刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2009年8期页码:摘要：
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电子工业专用设备基本信息
| 刊名 | 电子工业专用设备 | 主编 | 赵璋 |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 主管单位 | 中国电子科技集团 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1004-4507 | CN | 62-1077/TN |
| 邮编 | 100029 | 电子邮箱 | faith＿epe@sohu.net |
| 电话 | 010-64443110，64655251 | 网址 | www.chinaepe.com.cn |
| 地址 | 北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室 |
电子工业专用设备评价信息
期刊荣誉
| 1. | 2001~2002年度标准化规范化部级奖 |
| 2. | 获2003~2004年度出版质量部级奖 |
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