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电子工业专用设备期刊
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
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电子工业专用设备

Equipment for Electronic Products Manufacturing

影响因子 0.2109
本刊为国内外公开发行的技术性刊物，以报道半导体设备及半导体产业链技术与材料为主要方向，以“公布新的科技成就，传播科技信息，交流学术思想，促进科技成果的商品化、产业化，为建设社会主义精神文明与物质文明服务”为本刊的为刊方针。发挥传媒优势，全方位服务于微电子行业的广大科技工作者。
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
期刊荣誉：
2001~2002年度标准化规范化部级奖  获2003~2004年度出版质量部级奖 
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
100029
地址：
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
31
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目录
  • 1. 晶体硅太阳能电池生产线外围设施建设经验漫谈
    作者： 李克 毛朝斌 谢建国 陈特超
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  1-3,18
    摘要： 中国电子科技集团公司第四十八研究所是国内最早从事晶体硅太阳能电池整线交钥匙工程的单位,在国内已完成了几十家太阳能整线的建设。整线建设包括生产线设备的配置、安装,外围设施建设（厂房设计,净化间...
  • 2. 基于小型太阳能供电系统的研究与开发
    作者： 孙玉芳 张祥军 李可为 罗乐
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  4-6,23
    摘要： 阐述了10 kW小型太阳能供电系统的设计、组成、原理、选择、以及施工与维护。本系统节能效果显著、安装容易、使用方便,给小容量用户带来方便。另外,从低碳经济和可再生能源的开发与利用,是我国今后...
  • 3. ADT7100划片机的使用和维护
    作者： 刁振国 殷履文 臧成东
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  7-9,40
    摘要： 划片是电子器件封装工艺中重要的工艺之一,是将一整片晶圆切割成每个独立的个体,芯片切割的质量直接影响封装的质量和器件的性能。划片机有SAW类型的划片机,还有激光划片机。作者多年以来一直从事划片...
  • 4. 划片机空气静压电主轴径向轴承的设计
    作者： 刘婷婷 李战伟
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  10-13
    摘要： 径向轴承是划片机空气静压电主轴的关键零件,径向轴承的结构及尺寸直接影响转轴的高速旋转精度及工作性能。采用表压比法对划片机空气静压电主轴径向轴承进行设计计算,确定径向轴承的结构参数。
  • 5. 飞针测试工艺研究及Z轴结构设计
    作者： 吕磊 谭立杰 赵立华
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  14-18
    摘要： 以双面飞针测试系统为例,介绍了飞针测试的主要工艺技术,并详细介绍了Z轴机构的设计改进过程。
  • 6. 投影光刻中非对称型相位光栅对准信号及对准误差计算模型
    作者： 戈亚萍
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  19-23
    摘要： 在半导体投影光刻机中,对因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作了详细分析,提出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型,并着重分析了CMP型对准标记和金属淀积型标记的相应特点。
  • 7. 孤立接触孔掩模显影工艺优化
    作者： 周家万 尤春 张海平 陈卓
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  24-26,58
    摘要： 掩模（Mask）生产过程中,孤立接触孔经过显影之后的量测值（ADI）会比设计值偏大,往往会超出线条容差值（CD Tolerance）的范围,影响掩模生产质量;主要总结了工艺生产线影响显影结果...
  • 8. 辐射探测器用高纯锗单晶技术研究
    作者： 刘锋 耿博耘 韩焕鹏
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  27-31
    摘要： 高纯锗单晶可以用作制备X射线辐射探测器。介绍了锗辐射探测器的研究现状与结构,论述了辐射探测器对高纯锗单晶的净杂质浓度、位错方面的要求。介绍了目前高纯锗生长主要的提纯方法和单晶生长方法,论述了...
  • 9. 消除区熔硅单晶生长中“硅刺”的研究
    作者： 刘燕
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  32-34,52
    摘要： 在无位错FZ硅单晶生长过程中,长＂硅刺＂是一种对单晶生长十分有害且常见的现象。单晶生长过程中一旦出现＂硅刺＂,如不能及时消除,会导致中途停炉,不仅浪费原料,而且影响生产,因此,如何减少和消除...
  • 10. ZnO薄膜晶体管真空退火设备的研究
    作者： 张浩 王宏杰 赵雪峰 靳丽岩
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  35-40
    摘要： 针对退火工艺能够改善ZnO薄膜晶体管性能及稳定性的问题,研究了ZnO-TFT真空退火设备。介绍了该设备的结构特征、电控系统及达到的指标。设备研发后对ZnO-TFT器件进行真空退火工艺处理,退...
  • 11. 相移掩模清洗结晶控制
    作者： 周家万 尤春 张海平 陈卓
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  41-42,47
    摘要： 在高端集成电路制造方面,普通二元掩模已经不能满足晶圆使用要求。目前,高端（线宽0.18μm以下）集成电路生产主要采用相移掩模。相移掩模（Phase Shift Mask）制作过程中,掩模表面...
  • 12. 有机清洗槽共振与噪声控制方法研究
    作者： 万弋 刘鸿儒 张继静
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  43-47
    摘要： 通过实验对有机清洗槽内抖动机构工作时的噪声值进行了定量评估。对可能引起共振和噪声的因素进行分析,并从降低噪音的角度出发,针对主要因素进行设计改进。改进后再进行实验,结果表明效果较好。
  • 13. JR286SS薄膜电容卷绕机的设计
    作者： 仉振 李晓光 栗宇春
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  48-52
    摘要： 介绍了JR286SS薄膜电容卷绕机的机械结构,对整机的工作原理,特性,技术创新以及影响电容芯子精度的因素等做了详细的描述。
  • 14. 基于日志挖掘的打印管理系统的分析与设计
    作者： 唐维燕
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  53-58
    摘要： 为了实现对基于网络共享模式打印的自动化管理,在对WMI技术及数据挖掘技术进行深入研究的基础上,针对打印任务查询、打印成本分摊、设备使用率等打印管理问题,采用WMI脚本技术,对打印服务器系统日...
  • 15. 光伏十二五目标确定庞大市场待开启电源生产王国转战新能源
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  59-60
    摘要： 过去十年是世界光伏快速成长的十年,中国光伏产业也快速崛起。国家非常重视这一新兴战略性产业的发展,出台的＂十二五＂能源规划中提到要大力发展光伏应用。作为亚洲规模最大的电源生产王国,天宝集团日前...
  • 16. 环球仪器携AdvantisAC-60LED亮相NEPCON中国展
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  60-61
    摘要： 环球仪器于4月25至27日期间，在上海举行的NEPCON中国展中，正式推出AdvantisAC-60LED平台。作为第一台专门针对不断增长的固态发光市场而设计的设备，AC-60LED采用了环...
  • 17. Manz发布业界产出量最快的湿制程设备加快cSi生产制程整合
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  61-62
    摘要： 高科技产业整合解决方案供应商Manz将参展SNEC2012第六届国际太阳能产业及光伏工程（上海）展览会暨论坛（展位：E3馆，310），届时将展示其最新的晶体硅太阳能电池湿制程设备：IPSGC...
  • 18. 景气回复、产能扩充2012年全球半导体产业将出现5％成长
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  62-62
    摘要： 台北讯：全球封测产业景气在历经金融海啸冲击后，产值于2007年见到473．4亿美元高点，随即出现连续2年衰退，并于2009年见到380．3亿美元低点。
  • 19. Nordson ASYMTEK推出新一代喷射点胶技术-NexJet^TM
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  63-63
    摘要： Nordson ASYMTEK公司，一家全球领先的点胶、涂装和喷射技术供应商，日前宣布推出新的NEXJetTM点胶系统并准备申请专利，这标志着现行的喷射技术又向前迈进了一大步。位于系统中心的...
  • 20. Entegris将在新英格兰建立先进的纳米技术研发和制造中心
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  63-64
    摘要： Entegris-总部位于比尔里卡的半导体和微电子行业供应商日前宣布，将会在马萨诸塞州贝德福德建立专注于先进材料科学的Entegrisi2M中心（以下简称“i2M中心”）。
  • 21. IPC发布2012年3月份PCB行业调查结果
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  64-65
    摘要： IPC-国际电子工业联接协会日前发布北美印制电路板（PCB）3月份的统计调查结果。 PCB行业增长率和订单出货比公布 从2011年3月到2012年3月，刚性PCB出货量下降了12．6％，...
  • 22. 汉高集团在中国打响商业秘密维权战争
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  65-66
    摘要： 德国汉高集团正式在中国打响商业秘密维权战争。2011年12月，其旗下企业正式向中国法院提交诉状，要求判令侵权者停止侵害商业秘密，并赔偿巨额损失。江苏省高级人民法院已经正式受理，目次此案正在审...
  • 23. 易格斯机床的“绿色革命”
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  65-65
    摘要： 德国工程塑料专家易格斯参展CCMT2012，“绿色机床”的理念让人眼前一亮。众多高效节能，降低成本的新产品亮相本次机床展，为国内外机床制造商提供了创新设计的可行方案：最多能节省57％驱动力的...
  • 24. “期待更多”收获更多得可（DEK）携最新创新技术和解决方案亮相2012年NEPCoNChina展
    作者：
    刊名： 电子工业专用设备
    发表期刊： 2012年5期
    页码:  66-66
    摘要： 作为行业一流的丝网印刷设备和工艺提供商，得可（DEK）在2012年NEPCON中国展上向客户展示了其强大的生产力优势及先进的工艺水平。秉承“期待更多”理念的得可在2012年NEP-CON中国...

电子工业专用设备基本信息

刊名 电子工业专用设备 主编 赵璋
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第四十五研究所  主管单位 中国电子科技集团
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1004-4507 CN 62-1077/TN
邮编 100029 电子邮箱 faith＿epe@sohu.net
电话 010-64443110，64655251 网址 www.chinaepe.com.cn
地址 北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室

电子工业专用设备评价信息

期刊荣誉
1. 2001~2002年度标准化规范化部级奖
2. 获2003~2004年度出版质量部级奖

电子工业专用设备统计分析

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