ZnO薄膜晶体管真空退火设备的研究

• 作者: 张浩 王宏杰 赵雪峰 靳丽岩
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO-TFT 真空退火 石英管 双室
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 材料制备工艺与设备
• 页码范围: 35-40
• 页数: 6页
• 分类号: TN948.43
• 字数: 2314字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.05.010

摘要

针对退火工艺能够改善ZnO薄膜晶体管性能及稳定性的问题,研究了ZnO-TFT真空退火设备。介绍了该设备的结构特征、电控系统及达到的指标。设备研发后对ZnO-TFT器件进行真空退火工艺处理,退火工艺提升了ZnO-TFT器件电学性能和偏压稳定性,设备达到满足工艺要求的效果。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	靳丽岩	中国电子科技集团公司第二研究所	4	8	1.0	2.0
2	张浩	上海大学机电工程与自动化学院	19	62	5.0	6.0
3	赵雪峰	中国电子科技集团公司第二研究所	6	9	2.0	2.0
4	王宏杰	中国电子科技集团公司第二研究所	8	8	2.0	2.0