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微细加工技术2000年第2期出版文献
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
微细加工技术
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投稿
Microfabrication Technology
CSTPCD
《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉:
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
地址:
湖南省长沙市
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
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4940
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目录
1.
软刻蚀--图形转移和微制造新工艺
作者:
何平笙 潘力佳
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
1-7
摘要:
软刻蚀"是相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法,总的思路就是把用昂贵设备生成的微图形通过中间介质进行简便而又精确的复制,提高微制作的效率,包括微接触印刷,毛细...
2.
EBAS-1型电子注分析仪数据采集及控制系统
作者:
张今朝 张福安
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
8-12
摘要:
简要介绍了电子注分析仪数据采集及控制系统的重要性和基本结构,然后着重介绍了该系统的软、硬件设置及其工作原理.
3.
分布串联横向电阻Spindt型FEA的研究
作者:
姚保纶 张金驰 李德杰 王炜
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
13-18
摘要:
提出了一种新型的分布串联横向电阻Spindt型FEA的制作工艺.通过溅射的办法制备了各层电极、绝缘层以及FEA电阻层.利用磁增强反应离子刻蚀设备,刻蚀出Mo薄膜电极图案和直径1μm,深度1μ...
4.
加入支撑墙的FED的电场分布及电子轨迹数值模拟
作者:
于宏宇 刘珩 罗淑云 葛常锋
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
19-23
摘要:
FED内部真空中的电场和电子运动受到支撑结构的影响,为此采用了有限元法计算带有介质支撑墙的FED电场分布;采用龙格-库塔法计算该空间电子轨迹.并且在考虑了介质支撑墙上的二次电子发射之后,定性...
5.
一种复杂图形的处理和扫描技术
作者:
刘伯强
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
24-27,7
摘要:
介绍一种集成电路版图复杂图案的处理和扫描技术,提出在一个大场中,分割成若干小场的扫描实用算法,完成各小场的定位及高速扫描硬件及软件结构.
6.
离子束刻蚀过程中台阶侧壁倾斜现象研究
作者:
卢振武 廖江红 李红军 翁志成
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
28-33
摘要:
从标量衍射理论出发,在傅立叶光学的基础上,建立一个数学模型,分析台阶侧壁倾斜对多阶菲涅耳透镜衍射效率的影响.并通过实验,分析影响台阶侧壁倾斜、表面粗糙度和刻蚀速率的因素,确定离子束刻蚀菲涅耳...
7.
折射微透镜制备中离子束刻蚀过程的计算机模拟
作者:
易新建 赵兴荣 陈长虹
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
34-38,33
摘要:
建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程.通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射状态下所得到的折射微透镜的截面轮廓,为优化离子束的刻蚀工艺奠定基础,同...
8.
用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
作者:
崔铮 张怡霄 杜惊雷 粟敬钦 郭永康
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
39-44
摘要:
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正,...
9.
微机电光调制器技术研究
作者:
张杰伟 柯菁华 茅惠兵 赖宗声 郑筱莉
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
45-49,44
摘要:
调制器是光纤系统的重要器件.硅基微机械光调制技术使用常规硅平面工艺方法,制作较为简单,成本较低.同时,又具有高数据速率(几Mb/s)和宽频带(1.3μm~1.5μm)性能,满足日益增长的波分...
10.
制备有机聚合物脊型光波导的新方法
作者:
单吉祥 应再生 曹庄琪 沈启舜
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
50-54
摘要:
详细讨论了DR1/PMMA聚合物波导在紫外光照射下,各个模式的有效折射率,薄膜厚度,以及紫外可见吸收谱的变化情况.并在此基础上,提出了以金属掩模,利用光漂白技术制备聚酰亚胺脊型光波导的新方法...
11.
基于AFM的微纳米结构力学特性测量
作者:
朱纪军 沈耀春 王静 赵冰 顾宁
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
55-61
摘要:
原子力显微镜(AFM)以其优异的特性不仅在微米、纳米的范围内获取图象,同时可以获取针尖与样品之间的作用力,为研究样品的力学性能提供了新思路.对AFM在力学测量上的原理和应用进行了综述,并提出...
12.
电镀法制作活动微结构的牺牲层工艺
作者:
刘刚 张新夷 田扬超 胡一贯 阚娅 陈大鹏
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
62-65
摘要:
报道了一种采用电镀方法制作活动微结构的牺牲层工艺,该牺牲层技术可用于微电子机械装置中活动部件的制作.利用电镀形成Zn牺牲层,结合微细加工技术中的LIGA工艺对该工艺进行了验证,制作出可活动的...
13.
LIGA技术X光深层光刻工艺研究
作者:
伊福廷 周狄 李昌敏 章吉良 郭晓芸 陈迪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
66-69,61
摘要:
通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究,获得了侧壁光滑、陡直,厚度达100μm,深宽比达20的光刻胶和金属微结构,表明该光束线适用于LIGA技术的研究.
14.
超磁致伸缩微位移驱动器的研究
作者:
张杰 谭久彬 贾宇辉
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
70-74,54
摘要:
新型超磁致伸缩材料TbDyFe具有输出力大、位移分辨力高及位移范围大等特点,将其应用于微位移驱动器中,将极大提高驱动器的性能指标,从而推动超精加工技术的发展.文中介绍了应用超磁致伸缩材料研制...
15.
SnO2纳米晶薄膜栅FET式气敏元件的研制
作者:
向思清 张彤 徐宝琨 王立军 索辉 阮圣平
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
75-78
摘要:
利用溶胶-凝胶法合成出纳米晶SnO2薄膜,该薄膜可以利用化学腐蚀方法光刻腐蚀,因此采用传统硅平面工艺可以制作出纳米晶SnO2薄膜栅FET式气敏元件,实现了制备纳米晶材料的溶胶-凝胶工艺与硅平...
16.
"863"计划项目-GaP液相外延系统通过部级设计定型鉴定
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2000年2期
页码: 
封2
摘要:
微细加工技术基本信息
刊名
微细加工技术
主编
曾用名
主办单位
中国电子科技集团公司第48研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
chi
ISSN
1003-8213
CN
43-1140/TN
邮编
电子邮箱
电话
网址
地址
湖南省长沙市
微细加工技术评价信息
该刊被以下数据库收录
1.
中国科技论文统计与引文分析数据库
期刊荣誉
1.
国家一级检索刊物用刊
2.
美国工程信息公司Ei数据库收录
微细加工技术统计分析
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