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微细加工技术2000年第3期出版文献
出版文献量（篇）
672
总下载数（次）
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总被引数（次）
4940
微细加工技术
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Microfabrication Technology
《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位：
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉：
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN：
1003-8213
CN：
43-1140/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
地址：
出版文献量（篇）
672
总下载数（次）
2
总被引数（次）
4940
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术，使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源(GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体，直径大于1000mm。等离子体离子流强度高...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 近年,硅基低维材料物理与工艺的研究预示,硅基光电子学将是今后半导体光电子学的一个主要发展方向,而对硅基纳米材料的研究一直是本领域的一个研究热点,评述了近年硅基纳米材料在制备技术方面所取得的新...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 研究了电子束曝光机图形数据格式转换软件的分割,压缩算法,针对传统的图形数据分割,压缩算法存在的主要缺点,提出了新的分割算法和压缩算法,并对压缩算法进行了详细的论述和研究.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 介绍了扫描电镜中的一种背散射电子采集和测量系统，该系统能探测那些较低能量损失且散射角接近180°的背散射电子。测量了在Au、Pt、Ag和C靶中的低失能近轴背散射电子的背散射率。结果显示该探测...
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5. 金刚石薄膜的反应离子刻蚀刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 反应离子刻蚀是金刚石薄膜图形化的一种有效方法.研究了用O2及与Ar的混合气体进行金刚石薄膜图形化刻蚀的主要工艺参数(射频功率、工作气压、气体流量、反应气体成分与比例等)对刘蚀速率和刻蚀界面形...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 主要研究了不同的反应离子刻蚀条件(氧基工作气体、刻蚀功率、工作气压等)下所获得的不同刻蚀效果.当以O2/CHF3作为工作气体时,在一定的工艺条件下实现了高深宽比(深度23μm,深宽比＞7)、...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了12001/mm,闪耀波长为130nm的锯齿...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 高深宽比结构是提高微器件性能的重要环节之一.利用RIE深刻技术加工具有高深宽比结构的图形,方法简单:它不象LIGA技术那样,需昂贵的同步辐射光源和特制的掩模板,对光刘胶的要求也不是特别高,利...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 采用同步辐射进行深度X射线光刻是LIGA工艺的模板的制备、光刻胶的涂制与深度X射线光刻等多个工艺环节,该技术在深宽比要求高的微光、微机械及微机电系统的元件制造领域有独特优势[1].报道采用L...
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10. 用交变电场进行微小粒子操作的方法刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 介绍了用交变电场对微小粒子进行操作的一种新型装置.对粒子的操作不仅可以批量进行,而且可以单个进行.通过对铝粒子的搬运试验,证明了此装王的可行性,也给出了此种装置对粒子的一般操作特性.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 为用自对准技术制作聚焦型发射阵列(FFEA)的聚焦极,要求FFEA的电阻层能透过光刻用近紫外光.为此提出用共溅射法制作Ni-SiO2金属陶瓷电阻层.研究结果表明,当适当调整Ni和SiO2成份...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 以四异丙醇钛为原料,氧气作反应气体,高纯氮气作载气,采用低压MOCVD在单晶Si基片上制备出了TiO2薄膜.研究了基片温度和氧气流量对TiO2薄膜沉积速率的影响,以及基片温度和退火温度对Ti...
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13. 液相外延系统中高指标热场的实现刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 高精度、高稳定性、高降温速率的热场,是液相外延设备研制中的关键技术之一.介绍了热场的结构设计、炉温的控制及调试结果.
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14. C-H体系CVD金刚石薄膜刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 化学气相淀积金刚石薄膜过程中,CH3和C2H2是金刚石生长的主要前驱基团.C2H2与CH3浓度比([C2H2]/[CH3])的变化将影响金刚石薄膜的生长取向.用非平衡热力学耦合模型计算了CH...
微细加工技术基本信息
| 刊名 | 微细加工技术 | 主编 | |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第48研究所 | 主管单位 | |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1003-8213 | CN | 43-1140/TN |
| 邮编 | 电子邮箱 | ||
| 电话 | 网址 | ||
| 地址 | 湖南省长沙市 |
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