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微细加工技术期刊
出版文献量（篇）
672
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4940

微细加工技术

Microfabrication Technology

CSTPCD

《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位：
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉：
国家一级检索刊物用刊  美国工程信息公司Ei数据库收录 
ISSN：
1003-8213
CN：
43-1140/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
地址：
湖南省长沙市
出版文献量（篇）
672
总下载数（次）
2
总被引数（次）
4940
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  • 1. 基于硅的微型燃料电池的研究
    作者： 曹广益 朱新坚 黄强
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  1-4,9
    摘要： 介绍了基于硅的微型燃料电池的国内外研究动态,总结了微型燃料电池的研究成果,并对其制作方法中的关键技术进行了阐述.在此基础上,根据微通道的特性,分析了电极板上各种不同截面形状的气道对微型燃料电...
  • 2. 基于高能电子束曝光的相对论卢瑟福公式研究
    作者： 李艳秋 赵国荣
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  5-9
    摘要： 高能电子运动速度较大,相对论效应很明显.传统的卢瑟福弹性散射公式是由非相对论的薛定谔波动方程得出的,在预言高能电子束曝光时,需要对其进行相对论修正.采用Born近似解相对论的Dirac方程,...
  • 3. 电子束真空辐射固化技术基础研究
    作者： 孔祥东 孙晓军 宋会英 张玉林
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  10-13,18
    摘要： 提出了电子束真空辐射固化技术新概念,并对该技术的固化机理等进行了阐述.通过对液态低聚物辐射固化条件和SDS-Ⅱ型曝光机的加速电压、曝光剂量等曝光参数的分析研究,得出SDS-Ⅱ型曝光机可以用于...
  • 4. 离子束辅助低能碳离子注入工艺原理
    作者： 周灵平 李德意 李绍禄 陈劲松 陈小华
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  14-18
    摘要： 离子束辅助低能碳离子注入是在低能含碳离子束轰击样品表面并沉积膜层的同时采用中能离子束辅助轰击注入,它可在低温下将碳离子注入到样品表层足够的深度,其注入深度比动态离子束混合(DIM)增加1～2...
  • 5. X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真
    作者： 余建祖 余雷 王永坤 陈大鹏
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  19-23,28
    摘要： 开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性.利用相同的有限元技术,对X射线光刻掩模的背面开窗、Si片刻蚀过程进行数值仿真.结果表明,图形区域的最大平面内形变(I...
  • 6. 溶胶-电雾化系统雾滴速度场LDV测量的研究
    作者： 秦俊 褚家如 鲁健
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  24-28
    摘要： 用基于多普勒频移和相位差原理的LDV(Laser Doppler Velocimeter)技术研究了溶胶-电雾化系统中荷电雾滴的轴向速度及其分布,并分析了雾滴在输运过程中的受力情况.结果表明...
  • 7. 磁控溅射和热氧化法制备ZnO纳米颗粒
    作者： 李玲 石礼伟 薛成山
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  29-32
    摘要： 利用射频磁控共溅射技术在Si(111)衬底上沉积金属锌/二氧化硅基质(Zn/SiO2)复合薄膜.在空气中600℃退火60 min,从SiO2基质中析出的金属Zn被空气中O2氧化生成了ZnO纳...
  • 8. 硅基镓浓度对GaN晶体膜质量的影响
    作者： 孙振翠 曹文田 李玉国 董志华 薛成山 魏芹芹
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  33-38
    摘要： 采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,再氮化反应组装GaN晶体膜,并对其生长条件进行了研究.用傅里叶红外谱仪(FTIR)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、选区电子衍射...
  • 9. 10%TMAH硅湿法腐蚀技术的研究
    作者： 司俊杰 马斌
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  39-44
    摘要： 研究了浓度为10%的四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液,在不同量的Si粉掺杂下,对铝膜及硅衬底的腐蚀及其pH值的变化.测试了在满足铝膜极低的腐蚀速率(＜1 rim/min)时,不同温度下该腐蚀液...
  • 10. 正交法对DEM技术中模压工艺的优化研究
    作者： 刘景全 孙洪文 陈迪 顾盼
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  45-49
    摘要： DEM(Deepetching,Electroforming,Microreplication)技术是一种三维微细加工技术,由深刻蚀、微电铸和微复制三种工艺组成.其中微复制常采用模压工艺,而...
  • 11. 微电磁继电器的结构设计和仿真分析
    作者： 周煜 李德胜 李浩群
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  50-54
    摘要： 介绍一种微电磁继电器的结构和工作原理.应用ANSYS软件对这种微继电器的蟹脚型悬臂梁进行静力学和动力学性能分析,得到结构参数对其机械性能影响的关系曲线,初步确定该结构的模型.仿真结果表明,在...
  • 12. 基于MEMS技术的微型燃料电池的制作
    作者： 刘理天 姜英琪 王晓红 谢克文
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  55-58
    摘要： 提出一套基于MEMS加工技术和薄膜淀积技术的硅基微型直接甲醇燃料电池的制作工艺流程.该微型燃料电池采用KOH体硅腐蚀技术得到流体通道,并溅射金属Pt层作为收集电流的电极.采用PDMS将两块带...
  • 13. 微流控芯片硅阳模的加工
    作者： 叶美英 方肇伦 殷学锋
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  59-64
    摘要： 研究了单晶硅阳模的制作工艺.考察了光刻胶前烘和后烘的温度、刻蚀剂浓度、组成及刻蚀温度等因素对单晶硅阳模质量的影响.得出了单晶硅阳模制作的最佳条件,用AZ4620光刻胶转移图形及二氧化硅为硅片...
  • 14. 用于微摩擦测试的微力传感器及其制作
    作者： 吴一辉 张平 李也凡 王淑荣 贾宏光 黎海文
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  65-69
    摘要： 微构件表面的摩擦状况和磨损机理与宏观构件有较大的区别,需一种能够测量微米尺度样品摩擦特性的专用仪器.给出了一种新型硅微力传感器的设计原理、结构、制作工艺及其弱信号采集方法.静态性能测试结果表...
  • 15. 一种PDMS薄膜型微阀的制备与性能分析
    作者： 崔海航 李战华 靳刚
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  70-75
    摘要： 通过厚胶光刻工艺在硅片上制备SU-8胶模板,利用该模板制备了高分子聚合物PDMS(PolydimethylsiIoxane,聚二甲基硅氧烷)微流道和薄膜结构.通过对不同结构的两层PDMS的不...
  • 16. 一种高分子聚合物PCR芯片的设计及有限元分析
    作者： 张卫平 李建华 牛志强 贾晓宇 陈文元
    刊名： 微细加工技术
    发表期刊： 2004年3期
    页码:  76-80
    摘要： 设计了一种以PDMS为基底的微型PCR芯片,并用有限元软件对芯片做了详细的温度场分析,主要分析了微型PCR芯片温度场的均匀性和分布以及芯片升、降温的效率.分析结果表明设计的聚合物芯片温度分布...

微细加工技术基本信息

刊名 微细加工技术 主编
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第48研究所  主管单位
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1003-8213 CN 43-1140/TN
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微细加工技术评价信息

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