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19905

真空科学与技术学报

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Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

曾用名：真空科学与技术

CA CSCD JST CSTPCD

影响因子 0.3586

本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。

主办单位：

中国真空学会

ISSN：

1672-7126

CN：

11-5177/TB

出版周期：

月刊

邮编：

100022

地址：

北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

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年度刊次

1. 栅极调制纳米线的场发射特性

作者：曾乐勇梁静秋王维彪雷达

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 225-230

摘要：建立一个理想的带栅极纳米线模型,利用静电场理论计算出纳米线顶端电场增强因子,进一步分析了栅孔半径以及栅极电压等参数对电场增强因子和纳米线顶端表面电流密度的影响.结果表明,在加较大的栅极电压的...
2. 磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的力学性能研究

作者：孙建张晔李学超李长生金岚

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 231-235

摘要： Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点.而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具...
3. 生物可降解Fe-O薄膜的制备及性能表征

作者：刘恒全孙鸿张瑜徐莉朱生发黄楠

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 236-240

摘要：纯铁由于其可降解性和无毒性,在血管支架材料领域具有潜在的应用前景.本文采用等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ&D)方法,在纯铁表面沉积一层Fe-O薄膜以改善纯铁表面的抗腐蚀性,用X射线光电子能...
4. 真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响

作者：张旭东李建功王姝魏玉鹏

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 241-246

摘要：采用磁控溅射制备TbDyFe非晶薄膜,系统研究了不同温度和时间真空热处理对薄膜结构与磁学性能的影响.当热处理温度高于450℃时,薄膜中有磁致伸缩的RFe2结晶相形成.热处理使Tb0.28Dy...
5. 离子束表面处理抑制空间行波管多级降压收集级二次电子发射的研究

作者：丁明清冯进军刘明辉李兴辉白国栋赵青平陈其略高玉娟黄明光

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 247-250

摘要：设计了一台抑制空间行波管多级降压收集极二次电子发射的、专用离子束处理设备.研究了Mo 原子沉积速率对二次电子发射系数和表面织构的影响.无氧铜片基底上的试验结果表明,二次电子发射系数与Mo原子...
6. 表面波等离子体天线的能量衰减系数研究

作者：位朝垒孙乃峰李建王世庆鄢泽林

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 251-254

摘要：根据功率平衡原理,得到了表面波等离子体天线中等离子体柱长度、等离子体密度与馈入功率的关系,导出了表面波等离子体天线中能量衰减系数沿轴向分布.实验测得充气压强为0.5Pa,6Pa和40Pa时等...
7. 等离子体浸没式离子注入沉积技术及应用

作者：任瑛姜辛张贵锋董闯

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 255-263

摘要：等离子体浸没式离子注入沉积是近年来迅速发展的一种材料表面改性新技术,其基本原理是,作为靶的工件外表面全部浸没在低气压、高密度的均匀等离子体中,工件上施加频率为数百赫兹、数千至数万伏高压负脉冲...
8. He-Ar潘宁过程对表面波等离子体的影响

作者：孙乃峰徐灵飞李建柳建王世庆王坤郦文忠

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 264-267

摘要：潘宁过程可以有效地降低直流、低频放电中的放电起始电压.关于射频放电,特别是表面波等离子体中的潘宁过程的研究,目前还很少有报道.本文介绍了一种由Ro-box装置激发的SWP源,通过实验方式研究...
9. 大气压下甲烷等离子枪的光谱诊断研究

作者：刘福平张军峰张跃飞边心超陈强

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 268-272

摘要：以甲烷为反应气体,氩气为辅助气体,通过大气压介质阻挡放电等离子枪,制备纳米类金刚石.在此过程中,利用发射光谱对甲烷等离子体中产生的活性粒子进行光学发射特征的原位诊断.通过对检测到的发射光谱谱...
10. 镀制工艺对TiO2光学膜层折射率影响研究

作者：耿桂宏

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 273-276

摘要：研究分析了基底温度、沉积速率、氧气分压、离子束辅助沉积等工艺参数和条件对TiO2膜层折射率的影响.研究表明,随着基底温度升高,TiO2光学膜层折射率呈上升趋势;随着沉积速率提高,TiO2膜层...
11. 射频溅射法制备硫化钨固体润滑薄膜的研究

作者：巴德纯惠秀梅杜广煜王晓光

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 277-281

摘要：本文研究了采用射频溅射法以3Cr13马氏体不锈钢为基片制备硫化钨薄膜.实验分别采用了不同的溅射功率、工作气压和沉积时间来制备样品.之后对三组样品分别进行物相分析、表面形貌观察、测定微区化学成...
12. 磁控溅射TiC/a-C薄膜的结构和摩擦学性能研究

作者：张文艳张旭海方峰蒋建清

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 282-286

摘要：采用磁控溅射法制备不同碳含量的碳化钛薄膜.采用SEM、XRD及HR-TEM等手段分析了TiC/a-C薄膜的微观组织结构,采用摩擦磨损仪和台阶仪研究了薄膜的摩擦学性能.研究结果表明,碳含量在4...
13. 射频磁控溅射法低温制备ZnO:Zr透明导电薄膜及特性研究

作者：刘汉法张化福类成新袁长坤

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 287-291

摘要：利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO:Zr)透明导电薄膜.讨论了薄膜厚度对ZnO:Zr薄膜结构、形貌、光电性能的影响.实验结果表明,厚度...
14. PECVD法沉积类金刚石膜的结构及其摩擦学性能

作者：张受业杨莉陈强

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 292-297

摘要：以C2H2为碳源,Ar气为辅助气体,利用射频等离子体化学气相沉积的方法在有机薄膜PET和载玻片上制备了类金刚石(diamond-like carbon,DLC)薄膜.通过红外光谱(FTIR)...
15. 真空触发开关的起弧稳定性分析

作者：周正阳廖敏夫董华军邹积岩

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 298-303

摘要：真空触发开关(triggered vacuum switch,TVS)是大功率脉冲技术领域的重要开关器件之一,它具有结构紧凑、介质恢复迅速、操作无噪声、工作可靠性高、环境适应性强等优点,在中...
16. 低架水蒸汽喷射真空泵的结构改进

作者：张兵杜江王超袁守谦

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 304-307

摘要：低架水蒸汽喷射真空泵在运行过程中,存在由于补给水的水压、流量及蒸汽压的波动,导致引流不畅,水封失效,产生倒流现象.分析实际情况,提出结构改进方案,引入汽、液两相流,对结构改进从理论角度和相关...
17. 应用MAFIA软件改进行波管性能姚

作者：刘聪刘韦苏小保

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 308-310

摘要：本文介绍了一种通过CAD分析方法提高行波管性能的实例,用计算机模拟仿真行波管慢波结构的冷特性参数,利用MAFIA软件的准周期边界条件模拟计算行波管慢波系统的色散和耦合阻抗.通过改变不同结构参...
18. 皮革真空湿加工设备与工艺的研究

作者：文怀兴章川波褚园

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 311-313

摘要：为了解决制革中的污染问题,在真空条件下,对制革工艺中的脱毛、铬鞣等主要污染工序进行了试验研究,分析了湿加工过程中的主要影响因素,提出了集真空、温度和机械作用于一体的结构方案,研制成功了一种新...
19. 静态膨胀法真空标准校准下限延伸方法研究

作者：徐婕李得天赵光平郭美如

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 314-317

摘要：影响静态膨胀法真空标准校准下限的主要因素是器壁放气,本文提出了使用非蒸散型吸气剂泵(NEGP)消除器壁放气影响来延伸校准下限的方法.NEGP对惰性气体无抽速,当以惰性气体作为校准气体时,NE...
20. FCVA法沉积的超薄类金刚石薄膜的结构与热稳定性

作者：方宏新王平车晓舟陈莲华马洪涛

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 318-323

摘要：采用FCVA方法沉积了厚度分别为2nm、5nm、10nm和30nm的类金刚石薄膜.在氩气保护下对类金刚石薄膜进行了180、300、400和600℃,保温6h的退火处理.用Raman光谱和宽光...
21. ITO薄膜的磁控溅射工艺优化研究

作者：孙凯常天海

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 324-327

摘要：通过磁控溅射陶瓷靶制备ITO薄膜的工艺实验,研究了基底温度、溅射电压、氧含量等主要工艺参数对该薄膜光电性能的影响.实验结果表明:当基底加热温度为295℃、溅射电压为250V、氧分压占镀膜室总...
22. 提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究

作者：李云程陈文光饶益花

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 328-331

摘要：工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N/Al选择性吸收涂层,这种吸收涂层最外层为AlN介质减反层.在开环N2流量控制模式下,存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点.本文依据气相...
23. PECVD镀膜机等离子体静电探针诊断

作者：巴德纯徐化冰徐香坤王庆

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 332-335

摘要：开发了一个朗缪尔探针等离子体诊断系统,对PECVD真空镀膜机进行了等离子体参数诊断.该镀膜机内的等离子体是电容偶合激发方式的氩等离子体,激发源为射频电源(13.56MHz).在射频功率为40...
24. 无水氯化铝在真空条件下的升华研究

作者：冯月斌刘永成戴永年杨斌

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 336-339

摘要： AlCl3作为Al2O3的真空热还原-氯化-歧化反应的氯化剂,需要通过控制其升华条件以控制其进入反应体系的速率.本文研究了无水AlCl3在真空条件下的升华规律.采用研究Al2O3的真空热还原...
25. 《真空科学与技术学报》征和高说明/规范关键词选择的决定(试行)/学术论文摘要写作质量标准

作者：

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2009年3期

页码: 340

摘要：

真空科学与技术学报基本信息

刊名	真空科学与技术学报	主编	吴锦雷
曾用名	真空科学与技术
主办单位	中国真空学会	主管单位	中国科学技术协会
出版周期	月刊	语种	chi
ISSN	1672-7126	CN	11-5177/TB
邮编	100022	电子邮箱	vst@chinesevacuum.com
电话	010-58206280	网址
地址	北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室